一、药乳膏 药乳膏是一种或多种难溶于水的液体药剂或溶于适当溶剂中的固体药剂,经加入分散剂(如亚硫酸纸浆废液)加工处理而成的膏状制剂。使用时加入水中,由于分散剂能溶于水,药剂液珠能稳定地悬浮于水中。例如蒽油乳膏等。
(技术咨询:朱先生 1-9-9-5-1-8-2-4-5-2-6 公司有样机欢迎到厂做实验交流)
二、药物制作的性状
药物制剂在物理学方面的不同表现在乳剂的乳析、分裂、混悬剂中颗粒的结块或粗化,某些散剂的共熔,芳香水剂中挥发性油挥发逸散、片剂在贮藏中崩解性能的改变,浸出制剂的发等使药剂的原有质量变差甚至不合,使用要求。一般而言,物理方面的不稳定性部问题仅是药物的物理性质改变,但药物的化学结构不变。颗粒的粒径越小,反应面积就越大,成效就越明显。
三、乳化
乳化稳定性是指乳化液保持明显稳定状态并且不产生两相分层不稳定现象的特性。乳化是液-液界面现象,两种不相溶的液体,如油与水,在容器中分成两层,密度小的油在上层,密度大的水在下层。若加入适当的表面活性剂在强烈的搅拌下,油被分散在水中,形成乳状液,该过程叫乳化。通常情况下影响乳化稳定性的因素有乳化设备、乳化温度、乳化时间以及搅拌速度等。
四、乳化的因素
一般来说,乳化头的形式,剪切速率,定转子结构,乳化时间,乳化循环的周期等因素,都影响着物料的乳化效果。其中高速搅拌乳化机剪切作用的强弱直接影响到物料的终的细度。 据分析,物料的剪切细度主要与定转子锋利程度,材质的硬度,定转子之间的缝隙,切割的两刀口的相对运动速度及允许通过的粒径等有关,通常情况下,这几个因素都是相对稳定的,因此,两刀口的相对运动速度便是对剪切细度影响突出的一个因素了,具体表现为转子的圆周线速度(因为定子是不动的),该线速度高,则对径向流动的流体的切割或撞击的密度就高,因而细化作用就强,反之亦然。但该线速度不是越大越好的,线速度过大常常会有破乳的情况发生,或是线速度过大产生热量无法发散的话,反而影响物料的分散,使结果更不理想。
五、乳膏高速胶体磨设备原理 SDH系列管线式高剪切分散乳化机具有非常高的剪切速度和剪切力,粒径约为0.2-2微米可以确保高速分散乳化的稳定性。KE2000是一种三级高剪切在线分散机,用于生产非常精细的乳液和悬浮液。工作腔内的剪切力大大增加了物料的输送,加快了单分子和高分子物质的溶解速度。三级定转子组合(分散头)确保液滴或粒度小且分布范围很窄。此工艺可以使单次混合的混合物长时间保持稳定,尤其是混合乳化液时。
设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级 电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、 电源选择: 380V/50HZ、440V/50HZ 电机选配件: PTC 热保护、降噪型 乳化机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti 乳化机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
乳化机表面处理:抛光、耐磨处理 进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍 乳化机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器
六、设备参数
型 号 |
功率(kW) |
转速(rpm) |
流量范围(m3/h) |
KE2000/100 |
4 |
12000 |
0-1 |
KE2000/100 |
7.5 |
9500 |
0-8 |
KE2000/120 |
11 |
9500 |
0-12 |
KE2000/140 |
15 |
9500 |
0-18 |
KE2000/165 |
22 |
7000 |
0-22 |
KE2000/200 |
37 |
4000 |
0-30 |
KE2000/220 |
55 |
4000 |
0-40 |
KE2000/240 |
75 |
2799 |
0-55 |
KE2000/260 |
90 |
2800 |
0-65 |
KE2000/300 |
110 |
1470 |
0-80 |
KE2000/360 |
132 |
1470 |
0-100 |
KE2000/380 |
160 |
1470 |
0-120 |
KE2000/420 |
200 |
1470 |
0-155 |
注
* 表中流量范围是指介质为“水”时测定的数据,表中所列型号的出口压力≤0.15MPa; * 如采用循环工艺,建议与间歇式高剪切分散乳化机配合使用; * 如有高温、高压、易燃易爆、腐蚀等特殊工况时,须提供详细准确的参数; * 对流动性较差的介质,建议在入口处选用流量相匹配的泵输送,输送泵的压力≤0.3MPa; (技术咨询:贾先生 1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0 公司有样机欢迎到厂做实验交流)
ZKE/中新宝售前与售后服务
一、所有由我公司提供的设备,我们将负责设备安装调试验收至产品合格,设
备正常验收,进入生产。
二、亲自上门提供正常的设备操作培训,为需方培训多名工程技术人员,全面
掌握生产工艺,设备日常维护,故障及生产管理。
三、所提供设备均保修三年。在保修期内除需方因操作不当造成的原因外,所
有因设备维修发生的维修费用均由我公司负责。
四、我公司在接到维修报告后,无特殊情况,本市多3小时、全国多24小
时到达现场。
五、终身维护,在质保期外,如有设备故障,我公司派人来服务。维修零配件
和其他不高于市场价格。
六、我公司将长期为顾客提供的制造工艺、技术革新、市场动态等同
类行业情报信息。
七、购买设备前我们将提供咨询支持,免费试验,也可到我们的工厂参观。
药乳膏高速胶体磨,膏剂真空均质机,乳膏实验室分散机,制药GMP分散机机