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厦门韫茂超高真空镀膜设备
一、核心参数:
仪器种类:电子束蒸发镀膜机
产地类别:国产
应用领域:微电子学
基片尺寸:4寸(可定制)
靶材:AL
基片温度范围:RT-900ºC
成膜厚度均匀性:均一性<3%
真空:<1E-9Torr
二、约瑟夫森结超高压系统:
超高真空镀膜设备专业制备约瑟夫森结制备,可精确生长所需的金属层和氧化绝缘层,确保高性能制备及高成品率;此镀膜仪有进样室、氩离子清洗室、电子束蒸发室以及氧化室,共计四个高真空腔室,腔室间使用传样杆进行高真空传样,传递模组须采用抓取式设计;设备所有工艺均支持4英寸及以内的晶圆或不规则样品。设备整个工艺过程,可以按照用户设置的参数自动化运行,工艺流程包括并不限于:抽真空,监测气压,离子清洗,样品位置调节、传样,加热,电子束蒸发特定厚度设置,自动调整气压等。
超高真空镀膜设备
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