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当今镀膜行业使用的制作方式主要有两种，一种是化学气相沉积，也就是化学镀膜（CVD），一种是物理气相沉积，也就是真空镀膜（PVD）。化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学镀膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀件表层杂质多，镀出来的效果不好。化学镀膜需要的反应温度很高，一般要控制在 1000℃左右，但很多基体材料是无法经受如此高温，性能变坏。如在硬质合金刀具上蒸镀 TiN，基体扩散出来的碳会与溶液发生反应而形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。而 PVD 技术解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生有毒或有污染的物质，镀出来的膜层硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性好，性能更稳定，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高 2-10 倍。

因此，从行业的技术发展趋势来看，等离子处理、真空法将成为未来行业技术发展的方向。

PVD即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物或其反应物沉积在基材上。它具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用先进的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际的工艺创新。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验，为客户提供适合的涂层加工方案。

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